文献
J-GLOBAL ID:201202200835520079
整理番号:12A0549337
プラズマ暴露した多孔質有機シリケートガラスの時間依存絶縁破壊
Time-dependent dielectric breakdown of plasma-exposed porous organosilicate glass
著者 (6件):
NICHOLS M. T.
(Plasma Processing & Technol. Lab. and Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Wisconsin-Madison ...)
,
SINHA H.
(Plasma Processing & Technol. Lab. and Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Wisconsin-Madison ...)
,
WILTBANK C. A.
(Plasma Processing & Technol. Lab. and Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Wisconsin-Madison ...)
,
ANTONELLI G. A.
(Novellus Systems, Tualatin, Oregon 97062, USA)
,
NISHI Y.
(Stanford Univ., Stanford, California 94305, USA)
,
SHOHET J. L.
(Plasma Processing & Technol. Lab. and Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of Wisconsin-Madison ...)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
100
号:
11
ページ:
112905-112905-4
発行年:
2012年03月12日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)