文献
J-GLOBAL ID:201202201035248580
整理番号:12A0652671
ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルホン酸)薄膜において近赤外-可視吸収,固有な局所抵抗と全体的シート抵抗との間の相関
Correlation between near infrared-visible absorption, intrinsic local and global sheet resistance of poly(3,4-ethylenedioxy-thiophene) poly(styrene sulfonate) thin films
著者 (6件):
HERRMANN Felix
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
,
ENGMANN Sebastian
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
,
PRESSELT Martin
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
,
HOPPE Harald
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
,
SHOKHOVETS Sviatoslav
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
,
GOBSCH Gerhard
(Inst. of Physics and Inst. of Micro- und Nanotechnologies, Ilmenau Univ. of Technol., 98693 Ilmenau, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
100
号:
15
ページ:
153301-153301-3
発行年:
2012年04月09日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)