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文献
J-GLOBAL ID：201202201094439534
整理番号：12A1216933
リソグラフィーとエッチ工程の統合による誘導自己組織化を用いたパターンのスケーリング
Pattern Scaling with Directed Self Assembly Through Lithography and Etch Process Integration
RATHSACK Benjamen
(Tokyo Electron America, Inc., TX, USA)
,
SOMERVELL Mark
(Tokyo Electron America, Inc., TX, USA)
,
HOOGE Josh
(Tokyo Electron America, Inc., TX, USA)
,
MURAMATSU Makato
(Tokyo Electron Kyushu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
TANOUCHI Keiji
(Tokyo Electron Kyushu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
KITANO Takahiro
(Tokyo Electron Kyushu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
NISHIMURA Eiichi
(Tokyo Electron Miyagi Ltd., Yamanashi, JPN)
,
YATSUDA Koichi
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
NAGAHARA Seiji
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
IWAKI Hiroyuki
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
AKAI Keiji
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
HAYAKAWA Takashi
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8323 ページ： 83230B.1-83230B.14 発行年： 2012年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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