文献
J-GLOBAL ID:201202201734458468
整理番号:12A1202297
HP,HIPとキャニング-HIPプロセスによるスパッタリングクロムターゲットの微細構造,電気抵抗および機械的性質に関する研究
Study on the microstructures, electrical resistance and mechanical properties of sputtering chromium target by HP, HIP and canning-HIP processes
著者 (3件):
CHANG Shih-hsien
,
LU Chung-wei
,
CHEN Jhewn-kuang
資料名:
International Journal of Refractory Metals & Hard Materials
(International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻:
35
ページ:
70-75
発行年:
2012年11月
JST資料番号:
H0059B
ISSN:
0263-4368
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)