文献
J-GLOBAL ID:201202202653936485
整理番号:12A0233497
DCアーク放電のイオンプレーティングでデポジットしたGaドープZnO膜の耐熱性:デポジション時のO2流量の効果
HEAT RESISTANCE OF GA-DOPED ZNO FILMS DEPOSITED BY ION-PLATING WITH DC-ARC DISCHARGE: IMPACT OF O2 FLOW RATE DURING DEPOSITION
著者 (4件):
MAKINO Hisao
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
,
YAMADA Takahiro
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
,
YAMAMOTO Naoki
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
,
YAMAMOTO Tetsuya
(Kochi Univ. Technol., Kochi, JPN)
資料名:
Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference
(Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference)
巻:
35th Vol.4
ページ:
2459-2462
発行年:
2010年
JST資料番号:
E0756A
ISSN:
0160-8371
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)