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文献
J-GLOBAL ID：201202202656786980
整理番号：12A1523420
HF/HNO3混合物中でのウエット化学エッチング中におけるシリコンの酸化に対する質量および電子平衡
Mass and Electron Balance for the Oxidation of Silicon during the Wet Chemical Etching in HF/HNO3 Mixtures
ACKER Joerg
(Lausitz Univ. Applied Sci., Senftenberg, DEU)
,
RIETIG Anja
(Lausitz Univ. Applied Sci., Senftenberg, DEU)
,
STEINERT Marco
(GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One Ltd. Liability Co. & Co., Dresden, DEU)
,
HOFFMANN Volker
(IFW Dresden e.V., Dresden, DEU)
資料名：
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻： 116 号： 38 ページ： 20380-20388 発行年： 2012年09月27日
JST資料番号： W1877A ISSN： 1932-7447 CODEN： JPCCCK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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