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文献
J-GLOBAL ID：201202202936005038
整理番号：12A0507521
低圧プラズマ溶射-CVD過程でのプラズマジェット-基板の相互作用
Plasma Jet-Substrate Interaction in Low Pressure Plasma Spray-CVD Processes
GUITTIENNE Ph.
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Centre for Res. in Plasma Physics (CRPP), Lausanne, CHE)
,
GRANGE D.
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Centre for Res. in Plasma Physics (CRPP), Lausanne, CHE)
,
HOLLENSTEIN Ch.
(Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Centre for Res. in Plasma Physics (CRPP), Lausanne, CHE)
,
GINDRAT M.
(Sulzer Metco Switzerland AG, Wohlen, CHE)
資料名：
Journal of Thermal Spray Technology
(Journal of Thermal Spray Technology)
巻： 21 号： 2 ページ： 202-210 発行年： 2012年03月
JST資料番号： W0482A ISSN： 1059-9630 CODEN： JTTEE5 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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