文献
J-GLOBAL ID:201202202963403843
整理番号:12A1584206
シリサイドとシリコンとの間の界面の接触比抵抗測定の正確な方法とその応用
Accurate Method of Measuring Specific Contact Resistivity of Interface between Silicide and Silicon and Its Application
著者 (6件):
OHUCHI Kazuya
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
LAVOIE Christian
(IBM Res. Div., NY, USA)
,
YANG Bin
(T. J. Watson Res. Center, NY, USA)
,
KONDO Masaki
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MATSUZAWA Kazuya
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SOLOMON Paul M.
(IBM Res. Div., NY, USA)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
10,Issue 1
ページ:
101302.1-101302.9
発行年:
2012年10月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)