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文献
J-GLOBAL ID：201202203992616194
整理番号：12A1771011
スパッタリング法により作製したBi,Pb-2223薄膜の臨界電流密度
土屋啓輔
(熊本大 工)
,
吉村兆貢
(熊本大 工)
,
末吉哲郎
(熊本大 工)
,
藤吉孝則
(熊本大 工)
,
松本明善
(物質・材料研究機構)
,
北口仁
(物質・材料研究機構)
資料名：
低温工学・超電導学会講演概要集
(低温工学・超電導学会研究発表会講演概要集)
巻： 86th ページ： 75 発行年： 2012年11月07日
JST資料番号： G0564B ISSN： 0919-5998 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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