文献
J-GLOBAL ID:201202205133185168
整理番号:12A0960521
EUVリソグラフィーにおける三次元マスク効果による正確なフレアモデリングのための最適化マルチグリッド戦略
Optimized Multigrid Strategy for Accurate Flare Modeling with Three-Dimensional Mask Effect in Extreme-Ultraviolet Lithography
著者 (6件):
LEE Junhwan
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Gyeongbuk, KOR)
,
LEE Sangheon
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Gyeongbuk, KOR)
,
KIM Changreol
(Hynix Semiconductor Inc., Cheongju, KOR)
,
KIM Yongdae
(Hynix Semiconductor Inc., Cheongju, KOR)
,
KIM Sangpyo
(Hynix Semiconductor Inc., Cheongju, KOR)
,
KIM Ohyun
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Gyeongbuk, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
6,Issue 2
ページ:
06FB06.1-06FB06.10
発行年:
2012年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)