文献
J-GLOBAL ID:201202205261788428
整理番号:12A1306407
単結晶Co2FeSiホイスラー合金薄膜の磁気活性化体積に及ぼす界面の効果
The effect of interfaces on magnetic activation volumes in single crystal Co2FeSi Heusler alloy thin films
著者 (7件):
SAGAR J.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
,
SUKEGAWA H.
(Magnetic Materials Unit, National Inst. for Materials Sci. (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN)
,
LARI L.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
,
LAZAROV V. K.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
,
MITANI S.
(Magnetic Materials Unit, National Inst. for Materials Sci. (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN)
,
O’GRADY K.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
,
HIROHATA A.
(Dep. of Electronics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
101
号:
10
ページ:
102410-102410-4
発行年:
2012年09月03日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)