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文献
J-GLOBAL ID:201202205261788428   整理番号:12A1306407

単結晶Co2FeSiホイスラー合金薄膜の磁気活性化体積に及ぼす界面の効果

The effect of interfaces on magnetic activation volumes in single crystal Co2FeSi Heusler alloy thin films
著者 (7件):
SAGAR J.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
SUKEGAWA H.
(Magnetic Materials Unit, National Inst. for Materials Sci. (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN)
LARI L.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
LAZAROV V. K.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
MITANI S.
(Magnetic Materials Unit, National Inst. for Materials Sci. (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba 305-0047, JPN)
O’GRADY K.
(Dep. of Physics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)
HIROHATA A.
(Dep. of Electronics, The Univ. of York, York YO10 5DD, GBR)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 101  号: 10  ページ: 102410-102410-4  発行年: 2012年09月03日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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