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文献
J-GLOBAL ID：201202205384202584
整理番号：12A0495312
湿性オゾンを用いたイオン注入レジストの除去の研究
Study of the Removal of Ion-Implanted Resists Using Wet Ozone
GOTO Yousuke
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
ANGATA Yukihiro
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
IGARASHI Masanori
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
YAMAMOTO Masashi
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
NOBUTA Takuya
(Nitto analytical Techno Center Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
IIDA Takayuki
(Nitto analytical Techno Center Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
KONO Akihiko
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
HORIBE Hideo
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 2,Issue 1 ページ： 026504.1-026504.6 発行年： 2012年02月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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