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文献
J-GLOBAL ID：201202205920945013
整理番号：12A1015074
窒素仲介結晶化経由で作製した緩衝層つきのZnO:Al薄膜: N2/Arのガス流比の影響
ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio
SUHARIADI Iping
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ITAGAKI Naho
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ITAGAKI Naho
(JST-PRESTO, Tokyo, JPN)
,
KUWAHARA Kazunari
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
OSHIKAWA Koichi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
YAMASHITA Daisuke
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
UCHIDA Giichiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KAMATAKI Kunihiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KOGA Kazunori
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
NAKAHARA Kenta
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
SHIRATANI Masaharu
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 37 号： 2 ページ： 165-168 発行年： 2012年06月
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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