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文献
J-GLOBAL ID:201202205920945013   整理番号:12A1015074

窒素仲介結晶化経由で作製した緩衝層つきのZnO:Al薄膜: N2/Arのガス流比の影響

ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio
著者 (11件):
SUHARIADI Iping
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
ITAGAKI Naho
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
ITAGAKI Naho
(JST-PRESTO, Tokyo, JPN)
KUWAHARA Kazunari
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
OSHIKAWA Koichi
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
YAMASHITA Daisuke
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
UCHIDA Giichiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
KAMATAKI Kunihiro
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
KOGA Kazunori
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
NAKAHARA Kenta
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
SHIRATANI Masaharu
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)

巻: 37  号:ページ: 165-168  発行年: 2012年06月 
JST資料番号: L4468A  ISSN: 1382-3469  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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