文献
J-GLOBAL ID:201202206602408927
整理番号:12A1145213
CD-SEM臨界寸法均一性と局所オーバレイ計量の使用によるピッチ分割二重パターン形成プロセス制御の強化
Enhanced Process Control of Pitch Split Double Patterning by Use of CD-SEM Critical Dimension Uniformity and Local Overlay Metrics
著者 (7件):
HALLE Scott D.
(IBM @Albany Nanotech, NY)
,
HOTTA Shoji
(Hitachi America, NY)
,
KOAY Chiew-seng
(IBM @Albany Nanotech, NY)
,
CHEN Shyng-Tsong
(IBM @Albany Nanotech, NY)
,
KATO Takeshi
(Hitachi High-Technol. Corp., Minato-ku, JPN)
,
YAMAGUCHI Atsuko
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
COLBURN Matthew
(IBM @Albany Nanotech, NY)
資料名:
IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop
(IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻:
23rd
ページ:
321-326
発行年:
2012年
JST資料番号:
W0718A
ISSN:
1078-8743
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)