文献
J-GLOBAL ID:201202206906310370
整理番号:12A0495551
原子層堆積したAl2O3オーバ層を利用したH終端ダイヤモンド表面上の正孔チャネルの熱安定化
Thermal Stabilization of Hole Channel on H-Terminated Diamond Surface by Using Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Overlayer and its Electric Properties
著者 (3件):
KASU Makoto
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
SATO Hisashi
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
,
HIRAMA Kazuyuki
(NTT Corp., Kanagawa, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
5
号:
2
ページ:
025701.1-025701.3
発行年:
2012年02月25日
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)