文献
J-GLOBAL ID:201202207928980708
整理番号:12A1439331
RRAMに適用するサブ32nmEビームHSQピラーパターニングプロセスの基板とアンダーレイヤー依存性
Substrate and Underlayer Dependence of Sub-32nm E-beam HSQ Pillar Patterning Process for RRAM Application
著者 (6件):
CHEN Wei-Su
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
CHEN Peng-Sheng
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
WEI Hung-Wen
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
CHEN Frederick T.
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
TSAI Ming-Jinn
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
,
KU Tzu-Kun
(Industrial Technol. Res. Inst., Hsinchu, TWN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8325
ページ:
83250V.1-83250V.10
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)