文献
J-GLOBAL ID:201202208354638654
整理番号:12A1766385
水溶性フラレノールを用いたCu-CMP研磨スラリーの新世代
A New Generation of Cu-CMP Slurry using Water-Soluble Fullerenol
著者 (10件):
KOKUBO Ken
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HAYASHI Terutake
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TANADA Hiroki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ACHIKA Hideyuki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KISHIDA Hirotaka
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KANO Kazumasa
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MURAI Ryota
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MICHIHATA Masaki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OSHIMA Takumi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAKAYA Yasuhiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集
(Abstracts. Fullerenes-Nanotubes-Graphene General Symposium)
巻:
43rd
ページ:
18
発行年:
2012年09月05日
JST資料番号:
L1472A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)