文献
J-GLOBAL ID:201202209523891700
整理番号:12A1258055
リモートプラズマ原子層堆積によって室温で堆積したAl2O3膜への無線周波数プラズマパワーの影響
The Effects of Radio Frequency Plasma Power on Al2O3 Films Deposited at Room-Temperature by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
著者 (10件):
LEE Jaesang
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Hyungchul
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Hyungchul
(Hynix Semiconductor Inc., Gyeonggi-Do, KOR)
,
PARK Taeyong
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
KO Youngbin
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
JEON Heeyoung
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
PARK Jingyu
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
RYU Jaehun
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
,
RYU Jaehun
(Hynix Semiconductor Inc., Gyeonggi-Do, KOR)
,
JEON Hyeongtag
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
12
号:
7
ページ:
5494-5499
発行年:
2012年07月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)