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文献
J-GLOBAL ID:201202209523891700   整理番号:12A1258055

リモートプラズマ原子層堆積によって室温で堆積したAl2O3膜への無線周波数プラズマパワーの影響

The Effects of Radio Frequency Plasma Power on Al2O3 Films Deposited at Room-Temperature by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
著者 (10件):
LEE Jaesang
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
KIM Hyungchul
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
KIM Hyungchul
(Hynix Semiconductor Inc., Gyeonggi-Do, KOR)
PARK Taeyong
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
KO Youngbin
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
JEON Heeyoung
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
PARK Jingyu
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
RYU Jaehun
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)
RYU Jaehun
(Hynix Semiconductor Inc., Gyeonggi-Do, KOR)
JEON Hyeongtag
(Hanyang Univ., Seoul, KOR)

資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)

巻: 12  号:ページ: 5494-5499  発行年: 2012年07月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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