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文献
J-GLOBAL ID：201202210338619814
整理番号：12A0739013
クロム薄膜における反強磁性磁壁作製
Antiferromagnetic domain wall engineering in chromium films
LOGAN J. M.
(Dep. of Physics, The Univ. of Chicago, Chicago, Illinois 60637, USA)
,
KIM H. C.
(Dep. of Physics, The Univ. of Chicago, Chicago, Illinois 60637, USA)
,
ROSENMANN D.
(Center for Nanoscale Materials, Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439, USA)
,
CAI Z.
(Advanced Photon Source, Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439, USA)
,
DIVAN R.
(Center for Nanoscale Materials, Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439, USA)
,
SHPYRKO O. G.
(The Univ. of California, San Diego, La Jolla, California 92093, USA)
,
ISAACS E. D.
(Dep. of Physics, The Univ. of Chicago, Chicago, Illinois 60637, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 100 号： 19 ページ： 192405-192405-4 発行年： 2012年05月07日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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