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文献
J-GLOBAL ID：201202211433823824
整理番号：12A1333012
X線照射によるケイ素の加速酸化
Accelerated Oxidation of Silicon Due to X-ray Irradiation
BHANDARU Shweta
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
ZHANG En Xia
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
FLEETWOOD Daniel M.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
REED Robert A.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
WELLER Robert A.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
HARL Robert R.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
ROGERS Bridget R.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
,
WEISS Sharon M.
(Vanderbilt Univ., TN, USA)
資料名：
IEEE Transactions on Nuclear Science
(IEEE Transactions on Nuclear Science)
巻： 59 号： 4,Pt.1 ページ： 781-785 発行年： 2012年08月
JST資料番号： C0235A ISSN： 0018-9499 CODEN： IETNAE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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