文献
J-GLOBAL ID:201202211497625945
整理番号:12A1216993
ピッチが20nm以下のパターニングを目指した有向性自己集合ポリ(スチレン)-ブロック重合体(アクリル酸)
Directed Self-Assembly of Poly(styrene)-block-Poly(acrylic acid) Copolymers for Sub-20nm Pitch Patterning
著者 (7件):
CHENG Jing
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
LAWSON Richard A.
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
YEH Wei-Ming
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
JARNAGIN Nathan D.
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
PETERS Andrew
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
TOLBERT Laren M.
(Georgia Inst. Technol., GA)
,
HENDERSON Clifford L.
(Georgia Inst. Technol., GA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8323
ページ:
83232R.1-83232R.8
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)