文献
J-GLOBAL ID:201202213396483840
整理番号:12A0723145
薄膜応力の成長速度,温度及び微細構造依存性の動力学的モデル
Kinetic model for dependence of thin film stress on growth rate, temperature, and microstructure
著者 (4件):
CHASON E.
(School of Engineering, Brown Univ., Providence, Rhode Island 02912, USA)
,
SHIN J. W.
(Novellus, 11155 SW Leveton Dr., Tualatin, Oregon 97062, USA)
,
HEARNE S. J.
(Sandia National Lab., Albuquerque, New Mexico 87185, USA)
,
FREUND L. B.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana, Illinois 61801, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
8
ページ:
083520-083520-9
発行年:
2012年04月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)