文献
J-GLOBAL ID:201202214142272439
整理番号:12A0580780
サブナノメーターEOT nMOS FinFETの時間依存絶縁破壊
Time-Dependent Dielectric Breakdown on Subnanometer EOT nMOS FinFETs
著者 (6件):
FEIJOO Pedro C.
,
KAUERAUF Thomas
(IMEC, Leuven, BEL)
,
TOLEDANO-LUQUE Maria
,
TOGO Mitsuhiro
(IMEC, Leuven, BEL)
,
SAN ANDRES Enrique
(Universidad Complutense de Madrid, Madrid, ESP)
,
GROESENEKEN Guido
(IMEC, Leuven, BEL)
資料名:
IEEE Transactions on Device and Materials Reliability
(IEEE Transactions on Device and Materials Reliability)
巻:
12
号:
1
ページ:
166-170
発行年:
2012年03月
JST資料番号:
W1320A
ISSN:
1530-4388
CODEN:
ITDMA2
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)