文献
J-GLOBAL ID:201202216856111024
整理番号:12A1738477
気体NH3環境における電子ビーム誘起化学ドライエッチングおよびイメージング
Electron beam induced chemical dry etching and imaging in gaseous NH3 environments
著者 (4件):
LOBO Charlene J
(Univ. Technol., New South Wales, AUS)
,
MARTIN Aiden
(Univ. Technol., New South Wales, AUS)
,
PHILLIPS Matthew R
(Univ. Technol., New South Wales, AUS)
,
TOTH Milos
(Univ. Technol., New South Wales, AUS)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
23
号:
37
ページ:
375302,1-7
発行年:
2012年09月21日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)