文献
J-GLOBAL ID:201202217100225626
整理番号:12A1731430
角度低エネルギーHeイオン照射によって作製したグレーデッドビットパターン化磁気アレイ
Graded bit patterned magnetic arrays fabricated via angled low-energy He ion irradiation
著者 (5件):
CHANG L V
(Univ. Houston, TX, USA)
,
NASRUALLAH A
(Univ. Houston, TX, USA)
,
RUCHHOEFT P
(Univ. Houston, TX, USA)
,
KHIZROEV S
(Florida International Univ., FL, USA)
,
LITVINOV D
(Univ. Houston, TX, USA)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
23
号:
27
ページ:
275705,1-4
発行年:
2012年07月11日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)