文献
J-GLOBAL ID:201202218221240114
整理番号:12A0396471
各種の蒸着圧におけるCVDダイヤモンド薄膜の性質に対する炭化ホウ素の影響
Influence of boron carbide on properties of CVD-diamond thin films at various deposition pressures
著者 (2件):
ULLAH Mahtab
(Dep. of Physics, Bahauddin Zakariya Univ., Bosan Road, Multan-60800, PAK)
,
AHMED E.
(Dep. of Physics, Bahauddin Zakariya Univ., Bosan Road, Multan-60800, PAK)
資料名:
Current Applied Physics
(Current Applied Physics)
巻:
12
号:
3
ページ:
945-951
発行年:
2012年05月
JST資料番号:
W1579A
ISSN:
1567-1739
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)