文献
J-GLOBAL ID:201202218358741560
整理番号:12A0024681
rfマグネトロンスパッタリングで育成したGZO膜の特性に及ぼす析出パラメータと焼鈍処理の影響
Influence of deposition parameters and annealing treatment on the properties of GZO films grown using rf magnetron sputtering
著者 (3件):
HUANG C.h.
(Dep. of Mechanical Engineering, Lunghwa Univ. of Sci. and Technol., Taoyuan, Taiwan, TWN)
,
CHEN D.y.
(Dep. of Mechanical Engineering, Hwa Hsia Inst. of Technol., Taipei, Taiwan, TWN)
,
HSU C.y.
(Dep. of Mechanical Engineering, Lunghwa Univ. of Sci. and Technol., Taoyuan, Taiwan, TWN)
資料名:
Ceramics International
(Ceramics International)
巻:
38
号:
2
ページ:
1057-1063
発行年:
2012年03月
JST資料番号:
H0705A
ISSN:
0272-8842
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)