文献
J-GLOBAL ID:201202218660151160
整理番号:12A1737811
EUVマスクに関する新しい現像システム
New development system for EUV mask
著者 (9件):
TERAYAMA Masatoshi
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
SAKURAI Hideaki
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
SAKAI Mari
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
ITOH Masamitsu
(Toshiba Corp., Kanagawa, JPN)
,
FUNAKOSHI Hideo
(Tokyo Electron Kyusyu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
IWASAKA Hideaki
(Tokyo Electron Kyusyu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
IIZUKA Junko
(Tokyo Electron Kyusyu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
MARUYAMA Mitsuaki
(Tokyo Electron Kyusyu Ltd., Kumamoto, JPN)
,
HAYASHI Naoya
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8441
ページ:
844105.1-844105.7
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)