文献
J-GLOBAL ID:201202219034776414
整理番号:12A0960592
ポリスチレン-ポリ(ジメチルシロキサン)の自己組織化を用いる5nmサイズ・ナノドットの作製
Fabrication of 5-nm-Sized Nanodots Using Self-Assembly of Polystyrene-Poly(dimethylsiloxane)
著者 (4件):
HUDA Miftakhul
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
,
LIU Jing
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
,
YIN You
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
,
HOSAKA Sumio
(Gunma Univ., Gunma, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
6,Issue 2
ページ:
06FF10.1-06FF10.5
発行年:
2012年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)