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文献
J-GLOBAL ID：201202219797796106
整理番号：12A0222261
反応性スパッタリング法による酸化銅薄膜の電気的特性に対するArガス流量の影響
シュクル アヌマル
(工学院大 工)
,
シュクル ハイデル
(工学院大 工)
,
佐藤光史
(工学院大 工)
,
鷹野一朗
(工学院大 工)
資料名：
真空に関する連合講演会講演予稿集
巻： 52nd ページ： 91 発行年： 2011年11月16日
JST資料番号： L1308A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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