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文献
J-GLOBAL ID：201202220014410934
整理番号：12A1312021
SiO2基板との相互作用及びvan der Waals力によって誘起されたグラフェン上のNO2の物理吸着から化学吸着への遷移 第一原理研究
Physisorption to chemisorption transition of NO2 on graphene induced by the interplay of SiO2 substrate and van der Waals forces: A first principles study
DAI Jiayu
(Dep. of Physics, Coll. of Sci., National Univ. of Defense Technol., Changsha 410073, People’s Republic of China)
,
YUAN Jianmin
(Dep. of Physics, Coll. of Sci., National Univ. of Defense Technol., Changsha 410073, People’s Republic of China)
,
YUAN Jianmin
(State key laboratory of high performance computing, National Univ. of Defense Technol., Changsha 410073, People’s ...)
資料名：
Chemical Physics
(Chemical Physics)
巻： 405 ページ： 161-166 発行年： 2012年09月11日
JST資料番号： D0167B ISSN： 0301-0104 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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