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文献
J-GLOBAL ID：201202221826143847
整理番号：12A0029421
RFプラズマ支援パルスレーザー堆積法法によって調製されたZnO薄膜の局所的圧電特性
Local piezoelectric properties of ZnO thin films prepared by RF-plasma-assisted pulsed-laser deposition method
BDIKIN I K
(Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT)
,
GRACIO J
(Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT)
,
AYOUCHI R
(Instituto Superior Tecnico, Lisboa, PRT)
,
SCHWARZ R
(Instituto Superior Tecnico, Lisboa, PRT)
,
KHOLKIN A L
(Universidade de Aveiro, Aveiro, PRT)
資料名：
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻： 21 号： 23 ページ： 235703.1-235703.6 発行年： 2010年06月11日
JST資料番号： W0108A ISSN： 0957-4484 CODEN： NNOTER 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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