文献
J-GLOBAL ID:201202222143675718
整理番号:12A1287369
高速プラズモニックナノリソグラフィーのための固体浸漬レンズを用いた近接場記録技術
Application of Solid Immersion Lens-Based Near-Field Recording Technology to High-Speed Plasmonic Nanolithography
著者 (9件):
PARK Kyoung-Su
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Taeseob
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Won-Sup
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
JOE Hang-Eun
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
MIN Byung-Kwon
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
PARK Young-Pil
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
YANG Hyunseok
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
KANG Sung-Mook
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
PARK No-Cheol
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
8,Issue 3
ページ:
08JF01.1-08JF01.7
発行年:
2012年08月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)