文献
J-GLOBAL ID:201202222761374010
整理番号:12A1737865
1Tビット/インチ2および25nmピッチビットパターン媒体を目標としたナノインプリントリソグラフィーのためのマスターモールドおよびワーキングレプリカ
Master mold and working replica fabrication for Nano-Imprinting Lithography for 1Tbit/inch2 and 25nm pitch Bit Patterned Media
著者 (9件):
KOBAYASHI Hideo
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
KISHIMOTO Shuji
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
SUZUKI Kouta
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
IYAMA Hiromasa
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
NAKATSUKA Sakae
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
TANIGUCHI Kazutake
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
KAGATSUME Takaeshi
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
SATO Takashi
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
,
WATANABE Tsuyoshi
(HOYA Corp., Yamanashi, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8441
ページ:
84411N.1-84411N.10
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)