文献
J-GLOBAL ID:201202223243012097
整理番号:12A0583171
Ti注入アルミナの電気伝導率について
On the electrical conductivity of Ti-implanted alumina
著者 (10件):
SALVADORI M. C.
(Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA)
,
TEIXEIRA F. S.
(Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA)
,
CATTANI M.
(Inst. of Physics, Univ. of Sao Paulo, C.P. 66318, CEP 05315-970, Sao Paulo S.P., BRA)
,
NIKOLAEV A.
(High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS)
,
SAVKIN K. P.
(High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS)
,
OKS E. M.
(High Current Electronics Inst., Russian Acad. of Sciences, Tomsk 634055, RUS)
,
PARK H.-k.
(Thomas Jefferson National Accelerator Facility, Newport News, Virginia 23606, USA)
,
PHILLIPS L.
(Thomas Jefferson National Accelerator Facility, Newport News, Virginia 23606, USA)
,
YU K. M.
(Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, California 94720, USA)
,
BROWN I. G.
(Lawrence Berkeley National Lab., Berkeley, California 94720, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
6
ページ:
063714-063714-4
発行年:
2012年03月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)