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J-GLOBAL ID：201202223673288380 整理番号：12A0834542

Si(100)上の酸化セリウム薄膜の原子価数遷移とケイ酸塩形成

Valence number transition and silicate formation of cerium oxide films on Si(100)

著者 (12件)：

MAMATRISHAT M.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

KOUDA M.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

KAKUSHIMA K.

(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku ...)

NOHIRA H.

(TokyoCity Univ., 1-28-1 Tamazutsumi Setagaya-ku, Tokyo 158-8857, JPN)

AHMET P.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

KATAOKA Y.

(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku ...)

NISHIYAMA A.

(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku ...)

TSUTSUI K.

(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku ...)

SUGII N.

(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku ...)

NATORI K.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

HATTORI T.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

IWAI H.

(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)

資料名：

Vacuum (Vacuum)

巻： 86 号： 10 ページ： 1513-1516 発行年： 2012年04月27日
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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