文献
J-GLOBAL ID:201202223840046300
整理番号:12A0653151
532nmピコ秒レーザによるガラス基板上Ti膜の選択パターン形成と罫書き
Selective patterning and scribing of Ti thin film on glass substrate by 532 nm picosecond laser
著者 (3件):
YUNG K. C.
(The Hong Kong Polytechnic Univ., Dep. of Industrial and Systems Engineering, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong, P.R. China)
,
CAI Zhixiang
(The Hong Kong Polytechnic Univ., Dep. of Industrial and Systems Engineering, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong, P.R. China)
,
CHOY H. S.
(The Hong Kong Polytechnic Univ., Dep. of Industrial and Systems Engineering, Hung Hom, Kowloon, Hong Kong, P.R. China)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
107
号:
2
ページ:
351-355
発行年:
2012年05月
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)