文献
J-GLOBAL ID:201202223980449935
整理番号:12A1216994
14nmノード設計三重パターン形成の意味合いと,パターン形成
Implications of triple patterning for 14nm node design and pattering
著者 (6件):
LUCAS Kevin
(Synopsys Inc., TX, USA)
,
CORK Chris
(Synopsys Inc., Montbonnot, FRA)
,
YU Bei
(Univ. Texas, TX, USA)
,
LUK-PAT Gerry
(Synopsys Inc., CA, USA)
,
PAINTER Ben
(Synopsys Inc., OR, USA)
,
PAN David Z.
(Univ. Texas, TX, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8327
ページ:
832703.1-832703.12
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)