文献
J-GLOBAL ID:201202224324459440
整理番号:12A0437213
パルス真空アーク放電により成長させたW/WCNxバイレーヤに対する基板温度の影響
Substrate temperature influence on W/WCN x bilayers grown by pulsed vacuum arc discharge
著者 (5件):
OSPINA R.
(Universidad Nacional de Colombia Sede Manizales, Km. 9 via al Magdalena, Manizales, Colombia)
,
ESCOBAR D.
(Universidad Nacional de Colombia Sede Manizales, Km. 9 via al Magdalena, Manizales, Colombia)
,
RESTREPO-PARRA E.
(Universidad Nacional de Colombia Sede Manizales, Km. 9 via al Magdalena, Manizales, Colombia)
,
ARANGO P.j.
(Universidad Nacional de Colombia Sede Manizales, Km. 9 via al Magdalena, Manizales, Colombia)
,
JURADO J.f.
(Universidad Nacional de Colombia Sede Manizales, Km. 9 via al Magdalena, Manizales, Colombia)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
258
号:
12
ページ:
5100-5104
発行年:
2012年04月01日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)