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文献
J-GLOBAL ID：201202224940695336
整理番号：12A1485863
高kゲートスタックにおける欠陥発生の多手法による検討
Multi-technique study of defect generation in high-k gate stacks
VEKSLER D.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
BERSUKER G.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
MADAN H.
(Penn State Univ.)
,
VANDELLI L.
(Univ. Modena and Reggio Emilia)
,
MINAKAIS M.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
MATTHEWS K.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
YOUNG C. D.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
DATTA S.
(Penn State Univ.)
,
HOBBS C.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
,
KIRSCH P. D.
(SEMATECH Albany, NY, USA)
資料名：
Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium
(Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻： 2012 Vol.2 ページ： 496-500 発行年： 2012年
JST資料番号： A0631A ISSN： 1541-7026 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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