文献
J-GLOBAL ID:201202225029504430
整理番号:12A1175002
SiO2厚膜中のAgナノ粒子の成長の速度 Ostwald熟成のin situ光学評価
Kinetics of Ag nanoparticle growth in thick SiO2 films: An in situ optical assessment of Ostwald ripening
著者 (2件):
JIMENEZ J.a.
(Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA)
,
SENDOVA M.
(Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA)
資料名:
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻:
135
号:
2-3
ページ:
282-286
発行年:
2012年08月15日
JST資料番号:
E0934A
ISSN:
0254-0584
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)