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文献
J-GLOBAL ID:201202225029504430   整理番号:12A1175002

SiO2厚膜中のAgナノ粒子の成長の速度 Ostwald熟成のin situ光学評価

Kinetics of Ag nanoparticle growth in thick SiO2 films: An in situ optical assessment of Ostwald ripening
著者 (2件):
JIMENEZ J.a.
(Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA)
SENDOVA M.
(Optical Spectroscopy & Nano-Materials Lab, New Coll. of Florida, Sarasota, FL 34243, USA)

資料名:
Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)

巻: 135  号: 2-3  ページ: 282-286  発行年: 2012年08月15日 
JST資料番号: E0934A  ISSN: 0254-0584  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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