文献
J-GLOBAL ID:201202225086917547
整理番号:12A1729623
ポリシリコン薄膜トランジスタのためのレーザ結晶化の三次元シミュレータ
3-D Simulator of Laser Crystallization for Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistors
著者 (3件):
MATSUKI Kuniaki
(Ryukoku Univ., Otsu, JPN)
,
KIMURA Mutsumi
(Ryukoku Univ., Otsu, JPN)
,
ISHIHARA Ryoichi
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
資料名:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
(IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing)
巻:
25
号:
4
ページ:
650-656
発行年:
2012年11月
JST資料番号:
T0521A
ISSN:
0894-6507
CODEN:
ITSMED
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)