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文献
J-GLOBAL ID：201202225683703418
整理番号：12A0256801
高出力インパルスマグネトロンスパッタリングにおける定常状態放電の磁場制御による最適化
Steady state discharge optimization in high-power impulse magnetron sputtering through the control of the magnetic field
CAPEK J.
(Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de Montreal, P.O. Box 6079, Station Downtown, Montreal, Quebec H3C ...)
,
HALA M.
(Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de Montreal, P.O. Box 6079, Station Downtown, Montreal, Quebec H3C ...)
,
ZABEIDA O.
(Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de Montreal, P.O. Box 6079, Station Downtown, Montreal, Quebec H3C ...)
,
KLEMBERG-SAPIEHA J. E.
(Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de Montreal, P.O. Box 6079, Station Downtown, Montreal, Quebec H3C ...)
,
MARTINU L.
(Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de Montreal, P.O. Box 6079, Station Downtown, Montreal, Quebec H3C ...)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 111 号： 2 ページ： 023301 発行年： 2012年01月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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