文献
J-GLOBAL ID:201202226740163650
整理番号:12A1101719
ラジカルモニタリングに基づいた自律制御可能なプラズマエッチングシステム
An Autonomously Controllable Plasma Etching System Based on Radical Monitoring
著者 (12件):
TAKAHASHI Shunji
(Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
KAWAUCHI Ryota
(COM Electronics Dev. Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
TAKASHIMA Seigo
(Nagoya Urban Ind. Promotion Corp., Nagoya, JPN)
,
DEN Shoji
(Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
KATAGIRI Toshiro
(Katagiri Engineering Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
KANO Hiroyuki
(NU-Eco Engineering Co., Ltd., Aichi, JPN)
,
OHTA Takayuki
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
ITO Masafumi
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
SUZUKI Tatsuya
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKEDA Keigo
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HORI Masaru
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HORI Masaru
(JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
7,Issue 1
ページ:
076502.1-076502.6
発行年:
2012年07月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)