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文献
J-GLOBAL ID：201202227500492289
整理番号：12A0652251
低エネルギーイオンスパッタリング下のマイカ表面のナノパターニング
Nanopatterning of mica surface under low energy ion beam sputtering
METYA A.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
GHOSE D.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
MOLLICK S. A.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
MAJUMDAR A.
(Universitaet Greifswald, Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 111 号： 7 ページ： 074306-074306-7 発行年： 2012年04月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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