文献
J-GLOBAL ID:201202227500492289
整理番号:12A0652251
低エネルギーイオンスパッタリング下のマイカ表面のナノパターニング
Nanopatterning of mica surface under low energy ion beam sputtering
著者 (4件):
METYA A.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
GHOSE D.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
MOLLICK S. A.
(Saha Inst. of Nuclear Physics, Sector - I, Block - AF, Bidhan Nagar, Kolkata 700064, IND)
,
MAJUMDAR A.
(Universitaet Greifswald, Felix-Hausdorff-Str. 6, 17489 Greifswald, DEU)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
7
ページ:
074306-074306-7
発行年:
2012年04月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)