文献
J-GLOBAL ID:201202228866979152
整理番号:12A0867551
銅の高パワーインパルスマグネトロンスパッタリングにターゲットパワー密度が及ぼす影響
Effect of the target power density on high-power impulse magnetron sputtering of copper
著者 (1件):
KOZAK Tomas
(Univ. West Bohemia, Plzen, CZE)
資料名:
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻:
21
号:
2
ページ:
025012,1-12
発行年:
2012年04月
JST資料番号:
W0479A
ISSN:
0963-0252
CODEN:
PSTEEU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)