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文献
J-GLOBAL ID：201202230239658892
整理番号：12A1067380
a-C:H膜堆積における水素同位体トレーサー実験 CH4とD2を伴う反応性RFマグネトロンスパッタリング
Hydrogen isotope tracer experiment in a-C:H film deposition: Reactive RF magnetron sputtering with CH4 and D2
SEKIBA D.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
SEKIBA D.
(Tandem Accelerator Complex, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8577, JPN)
,
TAKEMOTO N.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
OKADA M.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
ISHII S.
(Tandem Accelerator Complex, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8577, JPN)
,
SAKURAI T.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
AKIMOTO K.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tennodai 1-1-1, Ibaraki 305-8573, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 27-28 ページ： 60-63 発行年： 2012年07月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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