文献
J-GLOBAL ID:201202230826505837
整理番号:12A1727404
電子ビームリソグラフィによるナノ電極間へ信頼できる3nmギャップの製造
Reliable fabrication of 3 nm gaps between nanoelectrodes by electron-beam lithography
著者 (5件):
MANHELLER Marcel
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
TRELLENKAMP Stefan
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
WASER Rainer
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
WASER Rainer
(RWTH Aachen, Aachen, DEU)
,
KARTHAEUSER Silvia
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
23
号:
12
ページ:
125302,1-6
発行年:
2012年03月30日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)