文献
J-GLOBAL ID:201202231510376136
整理番号:12A0235228
サブ45nmノードのための電子ビームリソグラフィーの効率的な大容量データ調製
Efficient large volume data preparation for electron beam lithography for sub-45nm node
著者 (8件):
CHOI Kang-Hoon
(Fraunhofer Center Nanoelectronic Technol., Dresden, DEU)
,
GUTSCH Manuela
(Fraunhofer Center Nanoelectronic Technol., Dresden, DEU)
,
FREITAG Martin
(Fraunhofer Center Nanoelectronic Technol., Dresden, DEU)
,
HOHLE Christoph
(Fraunhofer Center Nanoelectronic Technol., Dresden, DEU)
,
MARTIN Luc
(Aselta Nanographics, Grenoble, FRA)
,
BAYLE Sebastien
(Aselta Nanographics, Grenoble, FRA)
,
MANAKLI Serdar
(Aselta Nanographics, Grenoble, FRA)
,
SCHIAVONE Patrick
(Aselta Nanographics, Grenoble, FRA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8166
号:
Pt.2
ページ:
816621.1-816621.9
発行年:
2011年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)