文献
J-GLOBAL ID:201202233464738632
整理番号:12A0495297
同時スパッタリング法による低抵抗率透明伝導性のNbドープしたTiO2膜の調製
Preparation of Low Resistivity Transparent Conductive Nb-Doped TiO2 Films by the Co-sputtering Method
著者 (5件):
LI Meng-Chi
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
KUO Chien-Cheng
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
PENG Ssu-Hsiang
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
CHEN Sheng-Hui
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
LEE Cheng-Chung
(National Central Univ., Chungli, TWN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
2,Issue 1
ページ:
025504.1-025504.4
発行年:
2012年02月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)